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  • 日久光电取得高透光率电磁屏蔽膜专利,实现低方阻的同时保证较高的透过率:透光膜

    日久光电取得高透光率电磁屏蔽膜专利,实现低方阻的同时保证较高的透过率:透光膜

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    金融界2025年8月16日消息,国家知识产权局信息显示,江苏日久光电股份有限公司取得一项名为“高透光率电磁屏蔽膜”的专利,授权公告号CN223231499U,申请日期为2024年07月透光膜。专利

    2025-10-02
  • 雾度仪测量透明包装膜的透光率与雾度:透光膜

    雾度仪测量透明包装膜的透光率与雾度:透光膜

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    透光率与雾度是透明包装膜重要的光学性能,为了准确的评定透明包装膜透光率和雾度,就可以使用雾度仪进行测量透光膜。本文简单的介绍了雾度仪测量透明包装膜的透光率与雾度方法,感兴趣的朋友可以看看。透明包装

    2025-10-02
  • 上海追得新材料申请具有透光度调节功能的OMTD光电映射透明显示膜及其制备方法专利,具有优异的透明度:透光膜

    上海追得新材料申请具有透光度调节功能的OMTD光电映射透明显示膜及其制备方法专利,具有优异的透明度:透光膜

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    金融界2025年7月4日消息,国家知识产权局信息显示,上海追得新材料科技有限公司申请一项名为“一种具有透光度调节功能的OMTD光电映射透明显示膜及其制备方法”的专利,公开号CN120255178A,申

    2025-10-02
  • 上海鑫亮申请高透光高色稳透光膜色母粒及其制备方法和应用专利,使色母粒在长期紫外线照射及湿热环境下保持颜色稳定性:透光膜

    上海鑫亮申请高透光高色稳透光膜色母粒及其制备方法和应用专利,使色母粒在长期紫外线照射及湿热环境下保持颜色稳定性:透光膜

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    金融界2025年8月26日消息,国家知识产权局信息显示,上海鑫亮塑胶制品股份有限公司申请一项名为“一种高透光高色稳透光膜色母粒及其制备方法和应用”的专利,公开号CN120535890A,申请日期为20

    2025-10-02
  • 透光率测定仪在GB/T30161膜结构用涂层织物透光率测试中应用:透光膜

    透光率测定仪在GB/T30161膜结构用涂层织物透光率测试中应用:透光膜

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    引言随着现代建筑设计的不断创新,膜结构建筑因其轻盈、通透、美观的特点,广泛应用于体育场馆、展览中心、商业综合体等场景透光膜。作为膜结构的核心材料,涂层织物的性能直接影响建筑的功能与美观。其中,透光

    2025-10-02
  • 科伦塑业取得高透光农用棚膜及其制备方法专利:透光膜

    科伦塑业取得高透光农用棚膜及其制备方法专利:透光膜

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    金融界2025年8月16日消息,国家知识产权局信息显示,科伦塑业集团股份有限公司取得一项名为“一种高透光农用棚膜及其制备方法”的专利,授权公告号CN119752133B,申请日期为2025年03月透

    2025-10-02
  • 福耀玻璃取得光电功能膜透光组件制备方法等相关专利:透光膜

    福耀玻璃取得光电功能膜透光组件制备方法等相关专利:透光膜

    产品展示 # 福耀玻 # 方法等 # 关专利福耀玻 # 关专利 # 透光膜

    金融界2025年7月8日消息,国家知识产权局信息显示,福耀玻璃工业集团股份有限公司取得一项名为“光电功能膜、透光组件及其制备方法与车辆”的专利,授权公告号CN116500831B,申请日期为2023年

    2025-10-02
  • 威护材料取得光学透光纹理膜特性控制方法专利:透光膜

    威护材料取得光学透光纹理膜特性控制方法专利:透光膜

    关于我们 # 理膜特 # 方法专理膜特 # 方法专 # 透光膜

    金融界2025年8月1日消息,国家知识产权局信息显示,威护(上海)材料科技有限公司取得一项名为“光学透光纹理膜的特性控制方法”的专利,授权公告号CN120195877B,申请日期为2025年05月透光

    2025-10-02
  • 思尔德科技取得一种高透光柔性阻隔膜及其制备方法专利:透光膜

    思尔德科技取得一种高透光柔性阻隔膜及其制备方法专利:透光膜

    关于我们 # 方法专 # 高透光 # 尔德科方法专 # 尔德科 # 透光膜

    金融界2025年7月15日消息,国家知识产权局信息显示,江苏思尔德科技有限公司取得一项名为“一种高透光柔性阻隔膜及其制备方法”的专利,授权公告号CN120056566B,申请日期为2025年4月透光膜

    2025-10-02
  • 日久光电获得实用新型专利授权:“高透光率电磁屏蔽膜”:透光膜

    日久光电获得实用新型专利授权:“高透光率电磁屏蔽膜”:透光膜

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    证券之星消息,根据天眼查APP数据显示日久光电(003015)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“高透光率电磁屏蔽膜”,专利申请号为CN202421724856.9,授权日为2025年8月15日透光

    2025-10-02
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